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张学宇  讲师


1983年出生,吉林省桦甸市人。现任长春工业大学材料科学高等研究院教师。主要研究方向:半导体光电材料与器件;纳米复合涂层。


2008/09-2012/09,大连理工大学,材料科学与工程学院,博士,导师:闻立时

2006/09-2008/09,大连理工大学,材料科学与工程学院,硕士,导师:闻立时

2002/09-2006/07,大连理工大学,材料科学与工程学院,本科/学士


电子邮箱:dlut417@163.com


科研项目

1.2015年 长春市科技局项目,“多弧离子镀制备nc-TiN/a-Si3N4超硬薄膜及其应用研究”14GH016,25万元。主持。

2.2014年 长春市科技局项目,“氢化纳米晶硅薄膜的制备及应用研究”c2014030709ma,25万元。主持。

3.2013年 长春工业大学校内基金,“离子镀工艺在晶体硅太阳能电池上的应用研究”2012LG11,1.8万元。主持。


代表性学术论文

1. Xueyu Zhang, Aimin Wu*, Shaofei Shi, Fuwen Qin. Influence of Ar/H2 ratio on the characteristics of Boron-doped hydrogenated nanocrystalline silicon films prepared by electron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical vapor depositon. Surface and Coatings Technology, 228:412-415. 2013. 

2. Xueyu Zhang, Aimin Wu*, Shaofei Shi, Fuwen Qin, Jiming Bian. Influence of Ar/H2 ratio on the characteristics of phosphorus-doped hydrogenated nanocrystalline silicon films prepared by electron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical vapor depositon. Thin Solid Films, 521: 181-184. 2012. 

3. Xueyu Zhang, Aimin Wu, Hongyun Yue, Juan Hu, Lishi Wen. Preparation of p-type microcrystal Si:H films by ECR-PECVD. Materials Science Forum, 2010, 675-677: 1287-1290. EI

4. 张学宇,吴化,刘耀东,吴爱民. Ar流量对ECR-PECVD制备氢化纳米晶硅薄膜结构及性能影响研究. 人工晶体学报,42(9):1750-1756. 2013.

5. 张学宇,吴爱民,冯煜东,胡娟,岳红云,闻立时. ECR-PECVD制备n型微晶硅薄膜的研究. 人工晶体学报,39(4):852-856,2010.





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